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J-GLOBAL ID：200903026368406362

インク組成物用高分子化合物及びインク組成物

Inventor：
宇都宮 伸

About 宇都宮 伸


Applicant, Patent owner：
東洋合成工業株式会社

About 東洋合成工業株式会社


Agent (1)： 栗原 浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001058961
Publication number (International publication number)：2001316423
Application date： Mar. 02, 2001
Publication date： Nov. 13, 2001
Summary：
【要約】【課題】 インクジェット方式の画像形成に際し、水溶性のインク自体に硬化性を付与し、かつ硬化物の透明性、耐熱性が高いインク組成物を提供する。【解決手段】 インクジェット方式の画像形成用インク組成物のバインダー樹脂として用いるインク組成物用高分子化合物であって、下記一般式(I)及び(II)に示す骨格を有し、その20重量%水溶液の粘度が、25°Cにおいて3〜20mPa・sであることを特徴とするインク組成物用高分子化合物にある。【化3】(但しXは、Li、Na、K、若しくは一般式(1)で表されるいずれかのアンモニウム類、またはこれらの混合物を表す。R1〜R4はH、-CH3のいずれか、もしくはその混合物を表す。また、nは1〜15の整数を表す。)【化4】(但し、R5からR8は、それぞれ独立にH又はC1からC3までのアルキル基若しくはアルカノール基を表す。)
Claim (excerpt)：
インクジェット方式の画像形成用インク組成物のバインダー樹脂として用いるインク組成物用高分子化合物であって、下記一般式(I)及び(II)に示す骨格を有し、その20重量%水溶液の粘度が、25°Cにおいて3〜20mPa・sであることを特徴とするインク組成物用高分子化合物。【化1】(但しXは、Li、Na、K、若しくは一般式(1)で表されるいずれかのアンモニウム類、またはこれらの混合物を表す。R1〜R4はH、-CH3のいずれか、もしくはその混合物を表す。また、nは1〜15の整数を表す。)【化2】(但し、R5からR8は、それぞれ独立にH又はC1からC3までのアルキル基若しくはアルカノール基を表す。)
IPC (5)：
C08F220/06 ,  B41J 2/01 ,  B41M 5/00 ,  C08F220/28 ,  C09D 11/00
FI (5)：
C08F220/06 ,  B41M 5/00 E ,  C08F220/28 ,  C09D 11/00 ,  B41J 3/04 101 Y
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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