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J-GLOBAL ID：200903026376709153

滴下ノズル及び水素発生装置

Inventor： 梅岡 尚 ,  五藤 靖志 ,  深田 和宏
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003113076
Publication number (International publication number)：2004313974
Application date： Apr. 17, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：

【課題】所望の粒径で液体を安定かつ容易に供給できる滴下ノズル、及び、高効率で水素を発生することができる水素発生装置を提供する。【解決手段】水素発生装置の反応装置1に、芳香族化合物の水素化誘導体7を滴下する滴下ノズル3が設けられ、滴下ノズル3の下方には、誘導加熱装置5により加熱される反応触媒4が配置されている。滴下ノズル3は、芳香族化合物の水素化誘導体7を貯留する液溜部3aと、液溜部3aと外部とを連通する一つ以上の孔3cを有している。芳香族化合物の水素化誘導体7が滴下ノズル3の液溜部3aに溜められるとともに、滴下ノズル3から滴下される芳香族化合物の水素化誘導体7が、反応触媒4と接触して脱水素化反応が行われ、水素が発生する。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

液溜部と、前記液溜部と外部とを連通する一つ以上の孔とを具備する滴下ノズル。

IPC (2)：

B05B1/00 ,  C01B3/26

FI (2)：

B05B1/00 Z ,  C01B3/26

F-Term (6)：

4F033BA01 ,  4F033DA05 ,  4F033EA01 ,  4F033NA01 ,  4G140DA03 ,  4G140DB05