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J-GLOBAL ID：200903026379295015
集束イオンビーム発生装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992349275
Publication number (International publication number)：1994192858
Application date： Dec. 28, 1992
Publication date： Jul. 12, 1994
Summary：
【要約】【目的】 スパッタレートの異なる物質が混在しても集束イオンビームの走査速度を変えて均一なエッチングを行う集束イオンビーム発生装置を得る。【構成】 イオン源1から出射されるイオンビームを光学系を介して試料7表面に照射することによって発生するスパッタリング現象を利用して試料7表面にイオンビームを走査することによりエッチングを行う集束イオンビーム発生装置において、イオンビームの走査時に試料7表面から放出されるスパッタ粒子を検出するスパッタ粒子検出器9と、このスパッタ粒子検出器9の検出信号に基づいてスパッタレートを判別するスパッタレート判別部10と、このスパッタレート判別部10の出力信号に応じてイオンビームの走査速度を制御する速度速度制御部11とを備える。
Claim (excerpt)：
イオン源から出射されるイオンビームを光学系を介して試料表面に照射することによって発生するスパッタリング現象を利用して試料表面にイオンビームを走査することによりエッチングを行う集束イオンビーム発生装置において、イオンビームの走査時に試料表面から放出されるスパッタ粒子を検出するスパッタ粒子検出器と、このスパッタ粒子検出器の検出信号に基づいてスパッタレートを判別するスパッタレート判別部と、このスパッタレート判別部の出力信号に応じてイオンビームの走査速度を制御する走査速度制御部とを備えたことを特徴とする集束イオンビーム発生装置。
IPC (5)：
C23F 4/00
, H01J 37/04
, H01J 37/30
, H01L 21/265
, H01L 21/302
