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J-GLOBAL ID:200903026387994410

微細構造を有する部材の製造方法、およびその製造方法に用いる露光方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小笠原 史朗
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005149766
Publication number (International publication number):2006330085
Application date: May. 23, 2005
Publication date: Dec. 07, 2006
Summary:
【課題】 曲面上にサブミクロンの周期的な微細構造を容易に形成する製造方法を提供する。また、その製造方法に用いられる露光方法を提供する。【解決手段】 周期Pの格子パターンを有するマスクを準備する準備工程と、マスクを介して、スペクトル幅がΔλである光を部材に照射する照射工程とを備え、照射工程において、マスクと部材との距離dをd≧2P2/Δλとすることにより、部材表面上に周期がP/2となる強度分布を形成する。これにより、曲面上にサブミクロンの周期的な微細構造を容易に形成することができる。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
周期Pの格子パターンを有するマスクを準備する準備工程と、 前記マスクを介して、スペクトル幅がΔλである光を部材に照射する照射工程とを備え、 前記照射工程において、前記マスクと前記部材との距離dをd≧2P2/Δλとすることにより、前記部材表面上に周期がP/2となる強度分布を形成する、露光方法。
IPC (3):
G03F 7/20 ,  G03F 1/08 ,  G02B 1/11
FI (3):
G03F7/20 501 ,  G03F1/08 D ,  G02B1/10 A
F-Term (11):
2H095BA10 ,  2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H097BB02 ,  2H097BB04 ,  2H097CA15 ,  2H097GA45 ,  2H097LA17 ,  2K009AA12 ,  2K009BB14 ,  2K009DD05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • カバーガラス及び光学部品
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-307671   Applicant:セイコーエプソン株式会社
  • 表面処理方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-088524   Applicant:科学技術振興事業団, 高原浩滋
  • 特開昭56-26438号公報

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