温室設備

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：江原省吾 , 田中秀佳 , 白石吉之 , 城村邦彦 , 熊野剛 , 山根広昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005155618
Publication number (International publication number)：2006325516
Application date： May. 27, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】栽培作物周辺の温度環境を適値に維持するための冷暖房の効率を上げ、ランニングコストを低減させた温室設備の提供。【解決手段】温室1内の上部空間1bに設置されたエアーダクト10から下方の栽培作物5に向けて温度制御された空気を吹き付けて、栽培作物5の地上部周辺の温度を作物生長を促進する適温に制御すると共に、温室1内の培地4に埋設した培地配管20で培地温度を栽培作物5の根部の生長を促進する適値に制御する。この2つの温度制御を、共通の熱源発生装置30からの冷水または蒸気、温水の熱媒体を使用して効率よく行うことで、冷暖房のランニングコストを低減させる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

温室内の上部空間に設置され、温度制御された空気を前記温室内の下部空間に設置された栽培作物の生長点付近に向けて下向きに送風する冷暖房用給気配管と、前記栽培作物の培地に配設され、内部を流通する温度制御された熱媒体により前記培地の地温を調整する冷暖房用培地配管と、を具備したことを特徴とする温室設備。

IPC (2)：

A01G 9/24 , A01G 9/20

FI (2)：

A01G9/24 A , A01G9/20 A

F-Term (5)：

2B029KA06 , 2B029MA01 , 2B029SA01 , 2B029SA04 , 2B029SB09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

温室内の環境制御方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-377343 Applicant：株式会社イー・エス・ディ, 森田康雄

Cited by examiner (8)

特開昭56-061928
建築物空間内における植物の育成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-339568 Applicant：五洋建設株式会社
特開平3-187321

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