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J-GLOBAL ID：200903026424686055
露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993046519
Publication number (International publication number)：1994260385
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：
【要約】【目的】 感光基板のステージ手段を容器で包囲することなく投影光学系の最終光学部材と感光基板との間の空間に不活性ガスを供給することによって形成された所要の不活性ガス雰囲気中で露光することのできる、スループットの向上した露光装置を提供することを目的とする。【構成】 マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に転写する本発明の露光装置は、前記投影光学系と感光基板との間に形成される空間に投影光学系の光軸とほぼ平行に前記感光基板に向かって不活性ガスを供給するための第1の供給手段と、前記空間に投影光学系の光軸と交差する方向に不活性ガスを供給するための第2の供給手段とを備え、不活性ガス雰囲気中で露光投影を行うことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に転写する露光装置において、前記投影光学系と感光基板との間に形成される空間に投影光学系の光軸とほぼ平行に前記感光基板に向かって不活性ガスを供給するための第1の供給手段と、前記空間に投影光学系の光軸と交差する方向に不活性ガスを供給するための第2の供給手段とを備え、不活性ガス雰囲気中で露光投影を行うことを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 301 P
Cited by examiner (6)
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