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J-GLOBAL ID：200903026468086284

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
佐々木 知也

About 佐々木 知也


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003299023
Publication number (International publication number)：2005070328
Application date： Aug. 22, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：
【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、パターンプロファイルとラインエッジラフネスの特性が良好で、現像残渣(スカム)の少ないポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)特定の構造をもつフッ素原子含有樹脂(B)活性光線線の照射により、酸を発生する化合物、及び(X)特定の構造をもつ非ポリマー型溶解抑止剤を含有するポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(A-1)で表される基と、下記一般式(A-2)で表される基とを有し、且つ主鎖にフッ素原子又はトリフルオロメチル基が置換した構造を有するフッ素含有樹脂、 (B)活性光線若しくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (X)非ポリマー型溶解抑止剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F7/039 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (24)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AC26P ,  4J100AL24Q ,  4J100AR09R ,  4J100BA03R ,  4J100BB18R ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • WO-00/17712号パンフレット
  • WO-00/67072号パンフレット

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