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J-GLOBAL ID：200903026511126848

プラズマ促進材料処理用の誘導結合型高密度プラズマリアクタ

Inventor： シュエユー チェン
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995157851
Publication number (International publication number)：1996088220
Application date： Jun. 23, 1995
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 コイル状の高周波アンテナとプラズマとの間の容量結合を抑制すること。【構成】 本発明における誘導結合型プラズマリアクタは、高周波アンテナ(45)と、それに高周波電力を供給する高周波電源と、それらの間における容量結合を低減させるようアンテナを電源と電気的に絶縁する装置とを有している。好ましくは、アンテナを絶縁する装置として、電源に接続された一次巻線(60)とアンテナに接続された二次巻線(65)とを有するトランス(55)がよい。また、好ましくは、リアクタには複数の層を有する導電性のファラデーシールド(80)であって、アンテナと真空チャンバ天井との間に配置され且つ隣接する層の導電部分に面する渦電流抑制アパーチャ(84)を各層に有するものが含まれているのがよい。真空チャンバ天井はガス分配マニホールド(90)として作用し、天井の内側の層はガス分配マニホールドのシャワヘッドとなっている。

Claim (excerpt)：

ウェハを内部に保持するための真空チャンバを含み、且つプラズマガスを含むことができる誘導結合型プラズマリアクタであって、高周波アンテナと、前記高周波アンテナに高周波電力を供給するための高周波電源と、前記高周波アンテナを前記高周波電源と電気的に絶縁するための手段とを備えるリアクタ。

IPC (6)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/265 ,  H05H 1/46

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/265 D