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J-GLOBAL ID:200903026515319985

電子顕微鏡

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997298410
Publication number (International publication number):1999135046
Application date: Oct. 30, 1997
Publication date: May. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 像観察又は撮影に必要な試料領域だけに必要なビーム電流で電子線照射を行い、余分な電子線照射による試料ダメージを低減することのできる透過型電子顕微鏡を提供する。【解決手段】 少なくとも2段の照射レンズと電子線絞りを含む照射レンズ系の各レンズの励磁電流と試料の照射電子線密度、試料面上での電子線照射領域の大きさの関係をテーブルや数式の形で記憶しておき、例えば照射電子密度が一定となる条件で拡大倍率を変えたいとき、前記関係から照射レンズ系の各レンズの励磁条件を探索して設定する。また、試料面64上で電子線照射された領域の軌跡65を表示装置に表示する。
Claim (excerpt):
電子線源と、少なくとも2段の照射レンズと、前記電子線源から放出された電子線の一部を遮蔽することのできる絞りと、前記照射レンズを制御するレンズ制御手段とを有し、前記照射レンズによって集束され前記絞りによって制限された電子線を試料に照射する電子顕微鏡において、前記照射レンズ制御手段は、試料上の電子線照射領域の大きさを略一定としたままで照射電子線密度を可変する機能を有することを特徴とする電子顕微鏡。
IPC (2):
H01J 37/04 ,  H01J 37/21
FI (2):
H01J 37/04 A ,  H01J 37/21 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開平1-161646
  • 電子顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-053903   Applicant:日本電子株式会社
  • 電子ビーム装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-063927   Applicant:日本電子株式会社
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