Pat
J-GLOBAL ID：200903026539537215
基板処理装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
下出 隆史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994140860
Publication number (International publication number)：1995326570
Application date： May. 30, 1994
Publication date： Dec. 12, 1995
Summary：
【要約】【目的】 フィルタ54の乾燥に伴うフィルタ性能の低下を生じない基板処理装置20を提供する。【構成】 処理槽22に貯留した薬液は、循環管路36を介して循環させつつ、フィルタ装置50によりパーティクル等が除去される。フィルタ装置50は、フィルタ内室54aを有する袋状のフィルタ54を備えており、該フィルタ54の外部からフィルタ内室54aへ循環管路36の薬液を通過させることによりパーティクル等が除去されて清浄処理がなされる。薬液は、フィルタ54を通過する際に減圧状態になるから、薬液に溶けていた気体が発生する。この気体は、フィルタ内室54a内に溜まろうとするが、気体抜き管71を介してフィルタ内室54aから排出され、フィルタ54を乾燥させない。
Claim (excerpt)：
基板を処理する処理槽を備え、該処理槽に貯留した処理液を処理槽外に設けた循環管路を経て循環させつつ処理液を清浄処理する基板処理装置において、第1室と第2室との間に介在し、上記循環管路を流れる処理液を第1室から第2室へ通すことにより清浄処理するフィルタと、上記第2室内の気体を第2室外へ排出する気体排出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 501
