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J-GLOBAL ID：200903026542165272
スパッタリングターゲットの再生方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998075355
Publication number (International publication number)：1999269639
Application date： Mar. 24, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：
【要約】【課題】 使用済みターゲットを有効利用するに際し、原料粉末に転換することなく、再利用可能な形状に再生する安価な方法の提供を課題とする。【解決手段】 所望粒径の使用済みターゲットと同じ材質の粒子を使用済みターゲットにプラズマ溶射あるいは溶射するものであり、ターゲットが酸化物ターゲットの場合には、平均粒径0.01〜0.1mmの球状、あるいは略球状の原料粉を粒子速度300〜1200m/秒でプラズマ溶射し、ターゲットが貴金属等の金属あるいは合金の場合には、平均粒径0.5〜2.0mmの球状、あるいは略球状の原料粉を、該原料粉の融点の略半分以下の温度で、粒子速度300〜1200m/秒で溶射する。
Claim (excerpt)：
所望粒径の使用済みターゲットと同じ材質の粒子を使用済みターゲットにブラズマ溶射することを特徴とするスパッタリングターゲットの再生方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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