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J-GLOBAL ID：200903026544886929
有機EL素子およびその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003040848
Publication number (International publication number)：2004235128
Application date： Feb. 19, 2003
Publication date： Aug. 19, 2004
Summary：
【課題】有機蛍光体層の積層を、形成すべき位置に精度よく形成され、十分に高い隔壁層により囲まれた、濡れ性のよい領域に、厚みのバラツキを少なくして行なうことが可能な有機EL素子の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】有機EL素子11は、基板1、第1電極層2、全面に設けられた正孔注入層3、隔壁層4、有機蛍光体層5、第2電極層6の各層から構成され、好ましくは、正孔注入層3を露光により濡れ性が変化する素材で構成し、隔壁層4をフォトリソ法で形成し、有機蛍光体層5をインクジェット法で形成することにより課題を解決することができた。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基板上に、少なくともパターン状の第1電極層、正孔注入層、有機蛍光体層、およびパターン状の第2電極層の各層が順に積層されており、前記正孔注入層は、前記第1電極層上に一面に積層されており、前記有機蛍光体層は前記第1電極層および前記第2電極層のパターンに対応した画素部に積層されており、前記各画素部を囲む非画素部に隔壁層が積層されていることを特徴とする有機EL素子。
IPC (4)：
H05B33/14
, H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/22
H05B33/14 A
, H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/22 D
, H05B33/22 Z
3K007AB02
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
