廃水処理システム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：永田武三郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002138927
Publication number (International publication number)：2003326285
Application date： May. 14, 2002
Publication date： Nov. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】廃水処理における紫外線とオゾンの相乗酸化分解反応領域を拡大、安定させ、かつ、揮発性有機塩素化合物質等の揮発性汚濁物質を並行に分解処理を可能とし、しかも排出オゾンを抑制する機能を付加させた廃水処理システムを提供することである。【解決手段】廃水は噴霧式反応槽5内の噴霧ノズル5aから該反応槽内へ噴霧される。その噴霧された微細粒子中に溶存する汚濁物質は、紫外線発光ランプ5cから照射される紫外線と、オゾン供給部5bから供給されるオゾンガスと接触して吸収し相乗酸化を受けて分解除去される。又、噴霧式反応槽内で気化分離した揮発性有機塩素化合物質等は未利用オゾンガスと共にコンデンサー8を経由して気相反応槽9へ導入する。気相反応槽9へ送気された汚濁性気体は紫外線発光ランプ9aから発せられた紫外線の照射下に於いて未利用オゾン(オゾン濃度センサーを用いてオゾン濃度が不足する場合にはオゾン化装置から部分的に補給する)と接触して吸収し相乗酸化分解反応により分解除去される。

Claim (excerpt)：

反応槽内で紫外線とオゾンとの相乗酸化分解反応により廃水中の汚濁物質を分解処理する廃水処理システムにおいて、上記廃水を上記反応槽内に霧状にして供給する噴霧手段とオゾンガスを上記反応槽内部へ供給することを特徴とする廃水処理システム。

IPC (3)：

C02F 1/78 ZAB , B01D 53/70 , C02F 1/32

FI (3)：

C02F 1/78 ZAB , C02F 1/32 , B01D 53/34 134 E

F-Term (31)：

4D002AA11 , 4D002AA21 , 4D002AC10 , 4D002BA05 , 4D002BA09 , 4D002BA13 , 4D002CA13 , 4D002DA51 , 4D002EA02 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB06 , 4D002GB08 , 4D037AA11 , 4D037AA14 , 4D037AB01 , 4D037AB12 , 4D037AB14 , 4D037BA18 , 4D037CA12 , 4D050AA13 , 4D050AB07 , 4D050AB19 , 4D050AB38 , 4D050BB02 , 4D050BC09 , 4D050BD02 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

水中への溶存酸素生成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-132695 Applicant：持麾正, 南館誠
特開平2-115096
オゾン発生量制御装置およびその制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-043992 Applicant：株式会社明電舎

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