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J-GLOBAL ID：200903026556052683

露光装置及びマイクロデバイスの製造方法

Inventor： 堀越 崇広
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 藤本 芳洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005053969
Publication number (International publication number)：2006235533
Application date： Feb. 28, 2005
Publication date： Sep. 07, 2006
Summary：

【課題】 基板のたわみによる影響を排除することができる露光装置を提供する。【解決手段】 マスクMのパターンを投影光学系PLを介して基板Pa,Pb上に露光する露光装置において、前記基板上の前記投影光学系の光軸方向における位置を検出する検出手段AFと、前記検出手段により検出された検出結果に基づいて、前記基板上の前記投影光学系の光軸方向における位置が略同一の前記基板上の領域を選択する選択手段と、前記選択手段により選択された前記基板上の領域に対応する照明領域を形成する照明領域形成手段2と、前記照明領域形成手段により形成された前記照明領域に対応する前記基板上の領域の露光を行う露光手段とを備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に露光する露光装置において、 前記基板上の前記投影光学系の光軸方向における位置を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された検出結果に基づいて、前記基板上の前記投影光学系の光軸方向における位置が略同一の前記基板上の領域を選択する選択手段と、 前記選択手段により選択された前記基板上の領域に対応する照明領域を形成する照明領域形成手段と、 前記照明領域形成手段により形成された前記照明領域に対応する前記基板上の領域の露光を行う露光手段と、 を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 502C

F-Term (7)：

2H097AA11 ,  2H097BA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA12 ,  5F046AA11 ,  5F046BA03 ,  5F046DA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭61-232615号公報