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J-GLOBAL ID：200903026556774182

ケイ素系ハイブリツド材料

Inventor： 安藤 紀芳 ,  岩原 孝尚 ,  米沢 和弥
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991317285
Publication number (International publication number)：1993125191
Application date： Nov. 06, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、耐熱性、耐燃焼性に優れ、軽量高靱性で高い機械的強度と良好な成形加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料及びその製造方法を提供することにある。【構成】 本発明は、アルコキシシラン類((A)成分)を有機系高分子((B)成分)に含浸させて加水分解・縮合反応を行わせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料である。

Claim (excerpt)：

アルコキシシラン類((A)成分)を有機系高分子((B)成分)に含浸させて加水分解・縮合反応を行わせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料。

IPC (4)：

C08G 77/18 NUB ,  C08J 5/00 CFH ,  C08L 83/04 LRY ,  C08L 83:04