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J-GLOBAL ID：200903026568237085

感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

Inventor： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  鯉渕 滋 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995310177
Publication number (International publication number)：1997152714
Application date： Nov. 29, 1995
Publication date： Jun. 10, 1997
Summary：

【要約】【課題】 紫外線、遠紫外線、X線、電子線などの放射線のパタン状照射によりパタン潛像形成部に酸を発生させ、この酸を触媒とする反応によって、当該照射部と未照射部のアルカリ現像液に対する溶解性を変化させ、パターンを現出させる感光性樹脂組成物において、感度、解像度、安定性の良好な感光性樹脂組成物及び解像度のよいレジストパターンを形成することができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を変化させる反応性を有する媒体及び(d)溶媒を含む化学増幅系感光性樹脂組成物であって、熟成後濾過してなる感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、ついで現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を変化させる反応性を有する媒体及び(d)溶媒を含む化学増幅系感光性樹脂組成物であって、熟成後濾過してなる感光性樹脂組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F