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J-GLOBAL ID：200903026570079705

シロキサン系縮合物およびその製造方法

Inventor： 金森 太郎 ,  八島 啓介 ,  西川 昭
Applicant, Patent owner： JSR株式会社
Agent (4)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006139326
Publication number (International publication number)：2006348284
Application date： May. 18, 2006
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：

【課題】耐熱性、耐紫外線性、光透過性に優れ、厚膜形成可能なシロキサン系縮合物およびその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係るシロキサン系縮合物は、特定の重量平均分子量を有する2官能のポリシロキサンと、特定の重量平均分子量を有する多官能のシロキサンポリマーとを有機溶媒中で脱アルコール反応させた後、さらに加水分解・縮合させることにより製造することができる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A1)1分子中に2つの水酸基を有し、かつ下記式(1)

IPC (1)：

C08L 83/04

FI (1)：

C08L83/04

F-Term (3)：

4J002CP05W ,  4J002CP06X ,  4J002GJ02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 光半導体用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-087834   Applicant：住友ベークライト株式会社
• エポキシ樹脂組成物及び発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-136103   Applicant：ジャパンエポキシレジン株式会社
• 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-347603   Applicant：信越化学工業株式会社
• 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-006656   Applicant：信越化学工業株式会社