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J-GLOBAL ID：200903026603994897

潜像版下、潜像版下の製造方法、及び潜像版下を有する印刷装置

Inventor： 池田 眞砂恵 ,  丹尾 淳 ,  古瀬 泰幸
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997059392
Publication number (International publication number)：1998250027
Application date： Mar. 13, 1997
Publication date： Sep. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】 本発明は潜像版下に係り、迅速にしかも安価に作成可能とすることを課題とする。【解決手段】 潜像版下形成用ドラム11は、ドラム本体15と、この表面に形成された光触媒膜16とよりなる。光触媒膜16は、酸化チタン(TiO2)を主成分とする組成を有し、暗所において疎水性を有しており、紫外線を照射されるとその部分の性質が変化されて親水性となって、親水性を長い期間保持する性質を有する。紫外線レーザを所定のパターンで照射されて、親水性とならずに疎水性のまま残った部分が潜像を形成し、潜像版下形成用ドラム11は潜像ドラム版下となる。

Claim (excerpt)：

元々は疎水性を有しており光を照射されると光が照射された部分が親水性に変換される光触媒膜を有しており、親水性とされずに疎水性のままとされた部分が形成する潜像を有する構成としたことを特徴とする潜像版下。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 画像形成装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-289584   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 親水-疎水変換性能を有する部材及びそれを利用した装 置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-221640   Applicant：東陶機器株式会社

Cited by examiner (2)

• 親水-疎水変換性能を有する部材及びそれを利用した装 置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-221640   Applicant：東陶機器株式会社
• 画像形成装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-289584   Applicant：富士ゼロックス株式会社