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J-GLOBAL ID：200903026652181389

マーキングパターン形成装置

Inventor： 岡 清
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997049146
Publication number (International publication number)：1998244391
Application date： Mar. 04, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】被加工物に線幅の太いマーキングパターンを短時間で形成することのできるマーキングパターン形成装置を提供【解決手段】レーザ発振器1からレーザ光走査装置3に至るレーザ光2の光路上にアパーチャ8を設けるとともに、このアパーチャ8の絞り量を被加工物5に形成されるマーキングパターンの線幅に応じて制御する制御器10を設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

レーザ発振器より発振されたレーザ光を被加工物に照射すると共に該レーザ光を二次元方向に走査するレーザ光走査手段を備えたマーキングパターン形成装置において、前記レーザ発振器から前記レーザ光走査手段に至る前記レーザ光の光路上にアパーチャを設けるとともに、このアパーチャの絞り量を前記マーキングパターンの線幅に応じて制御する制御手段を設けたことを特徴とするマーキングパターン形成装置。

IPC (3)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  B41M 5/26

FI (4)：

B23K 26/06 E ,  B23K 26/00 B ,  B23K 26/00 N ,  B41M 5/18 Q