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J-GLOBAL ID：200903026682188507

液晶表示装置の製造方法

Inventor： 小間 徳夫
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 西野 卓嗣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993261115
Publication number (International publication number)：1995114044
Application date： Oct. 19, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液晶表示装置において絶縁膜の欠陥を防止して、層間ショートを無くすと共に、補助容量誘電層の膜厚を薄くして、補助容量電極の面積を縮小することにより、開口率の向上をはかる。【構成】絶縁膜(13)上に、回転塗布法によるSOG膜(17)を形成することにより、絶縁膜(13)のピンホールやクラックの穴埋めを行って、上記目的を達成する.

Claim (excerpt)：

基板上に第1のメタルを積層する工程と、該第1のメタルをパターニングする工程と、該第1のメタルを被覆する第1の絶縁膜を形成する工程と、該第1の絶縁膜上に半導体層を形成する工程と、該半導体層をパターニングする工程と、該半導体層上及び前記第1の絶縁膜上に第2の絶縁膜を形成して一部を前記第1の絶縁膜の欠陥部に埋め込ませる工程と、該第2の絶縁膜上に透明導電膜を形成する工程と、該透明導電膜及び前記第2の絶縁膜を同一マスクを用いたフォトエッチによりパターニングするとともに前記半導体層を露出させる工程と、前記半導体層及び前記透明導電膜を被覆する第2のメタルを積層する工程と、該第2のメタルをパターニングする工程とを有する液晶表示装置の製造方法。

IPC (2)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786