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J-GLOBAL ID：200903026689563273

光素子

Inventor： 馬場 俊彦 ,  谷 武晴
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 渡部 温 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000265433
Publication number (International publication number)：2002071981
Application date： Sep. 01, 2000
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】 フォトニック結晶と通常媒質との界面における光の反射損失が小さい光素子を提供する。【解決手段】 第1の屈折率を有する通常媒質領域12と、第1の屈折率と異なる第2の屈折率を平均屈折率として、位置によって屈折率が周期的に変化しているフォトニック結晶領域13と、通常媒質領域12とフォトニック結晶領域13との間に介在し、屈折率が第1の屈折率から第2の屈折率へと徐々に変化している中間領域14とを具備する。

Claim (excerpt)：

第1の屈折率を有する通常媒質領域と、前記第1の屈折率と異なる第2の屈折率を平均屈折率として、位置によって屈折率が周期的に変化しているフォトニック結晶領域と、前記通常媒質領域と前記フォトニック結晶領域との間に介在し、屈折率が前記第1の屈折率から前記第2の屈折率へと徐々に変化している中間領域と、を具備する光素子。

IPC (6)：

G02B 6/12 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/32 ,  G02F 1/01 ,  G02F 1/03 505 ,  G02F 1/29

FI (8)：

G02B 1/02 ,  G02B 5/32 ,  G02F 1/01 F ,  G02F 1/01 A ,  G02F 1/03 505 ,  G02F 1/29 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N

F-Term (13)：

2H047QA01 ,  2H047RA08 ,  2H049CA05 ,  2H049CA15 ,  2H049CA30 ,  2H079AA02 ,  2H079CA05 ,  2H079DA01 ,  2K002AB04 ,  2K002BA06 ,  2K002CA03 ,  2K002CA30 ,  2K002HA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• フォトニック結晶導波路およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-021139   Applicant：日本電信電話株式会社
• 光デバイス及びその形成方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-550108   Applicant：ビーティージー・インターナショナル・リミテッド
• ナノ構造体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-093129   Applicant：キヤノン株式会社