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J-GLOBAL ID：200903026691348290
イオン打込装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991239310
Publication number (International publication number)：1993078841
Application date： Sep. 19, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：
【要約】【目的】イオン打込装置の回転円板制御において、回転軸に直接モータとエンコーダを取付けたことにより、専用の原点検出センサを使用せずとも回転円板の位置決め動作を容易に出来、駆動伝達時のバックラッシュ誤差の低減や停止精度の向上を目的とする。【構成】回転円板2はDDモータ,エンコーダの付いたターンテーブルの全面に取り付けられている。DDモータはロータ3,ステータ4に分かれており、ロータはターンテーブルに固定されており、ステータはメインフランジに固定されている。ターンテーブルを取り付けた回転軸1に固定されたDDモータとエンコーダは、DDモータの制御用フィードバック信号の1つで1回転に1回しかエンコーダより検出されない信号を使用し、回転円板の位置決め動作をする。
Claim (excerpt)：
回転円板上の円周上に配列装着した複数のシリコンウェハ(以下ウェハと称す)にイオンビーム化した不純物を注入するイオン打込装置において、前記円板を回転させる為に円板及び円板用回転軸,軸受、前記回転軸上に取り付けたダイレクト・ドライブモータ(以下DDモータと称す)及びインクリメンタル・エンコーダ(以下エンコーダと称す)と、前記DDモータを回転制御する制御ユニットより構成し、前記回転円板の制御として、イオン注入時は定位置にあるイオンビームを回転円板上のウェハ表面に均一に注入できるよう円板を一定の速度で回転させる速度制御と、イオン注入済のウェハと未処理のウェハを入れ替えるウェハ交換動作時は、回転円板の円周上に装着したウェハを1枚毎所定の位置に回転移動させる位置制御を行う手段を有し、ウェハ交換の為の回転円板位置決め手段として前記エンコーダから1回転に1パルス出力される相(以下Z相と称す)を使用し、そのZ相が変化する変化点をとらえ、変化点からの相対移動角度によりウェハ交換の位置決めを行う事を特徴とするイオン打込装置。
IPC (5)：
C23C 14/48
, C23C 14/50
, G05D 3/12
, H01J 37/317
, H01L 21/265
