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J-GLOBAL ID：200903026733349268

ポジ型レジスト組成物の製造方法

Inventor： 中尾 元
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002134146
Publication number (International publication number)：2003330202
Application date： May. 09, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】 経時での感度変動が小さく、現像液展開性に優れたポジ型レジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】 単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の製造方法に於いて、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂をイオン交換フィルターにより濾過する濾過工程を含み、好ましくは、更に、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を不溶コロイド除去フィルターで濾過する濾過工程を含むポジ型レジスト組成物の製造方法。

Claim (excerpt)：

単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の製造方法に於いて、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂をイオン交換フィルターにより濾過する濾過工程を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。

IPC (3)：

G03F 7/26 501 ,  B01J 39/00 ,  G03F 7/039 601

FI (3)：

G03F 7/26 501 ,  B01J 39/00 ,  G03F 7/039 601

F-Term (16)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096LA30