気液分散装置及び気液接触装置並びに廃水処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小谷悦司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997213632
Publication number (International publication number)：1998146523
Application date： Aug. 07, 1997
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】気体の脈流や偏流をなくして空塔入口、触媒等の充填物入口に、良好な気液分布状態を発生させることのできる気液分散装置及び気液接触装置並びに廃水処理装置を提供する。【解決手段】液体が連続相を形成して流れ、気体が上向きに流れる系に配置される気液分散装置において、気液混相状態が形成される気液流路を遮断するようにして所定の間隔を空けて2枚以上配置される仕切部材からなり、該仕切部材が、単一の貫通孔を備えている単孔板1、または複数の貫通孔を備えている多孔板2、または単孔板1の貫通孔の出口側近傍に衝突板を備えている衝突板付単孔板3、または多孔板1の貫通孔の出口側近傍に衝突板を備えている衝突板付多孔板4の中から、1種以上を選択したものから構成されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

液体が連続相を形成して流れ、気体が上向きに流れる系に配置される気液分散装置において、気液混相状態が形成される気液流路を遮断するようにして所定の間隔を空けて2枚以上配置される仕切部材からなり、該仕切部材が、(a) 単一の貫通孔を備えている単孔板、または(b) 複数の貫通孔を備えている多孔板、または(c) 単孔板の前記貫通孔の出口側近傍に衝突板を備えている衝突板付単孔板、または(d) 多孔板の前記貫通孔の出口側近傍に衝突板を備えている衝突板付多孔板の中から、1種以上を選択したものから構成されていることを特徴とする気液分散装置。

IPC (5)：

B01F 5/06 , B01D 53/18 , B01F 3/04 , B01J 8/00 , B01J 10/00

FI (5)：

B01F 5/06 , B01D 53/18 D , B01F 3/04 Z , B01J 8/00 A , B01J 10/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ガス吸収装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-323402 Applicant：日立造船株式会社
特開昭55-031498

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