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J-GLOBAL ID：200903026766843900

リグニンのフェノール誘導体の製造方法

Inventor： 井岡 浩之 ,  山口 誠 ,  甲斐 啓二 ,  増田 健司
Applicant, Patent owner： 機能性木質新素材技術研究組合
Agent (1)： 特許業務法人アイテック国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003184500
Publication number (International publication number)：2005015687
Application date： Jun. 27, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】リグノフェノール誘導体の製造において、酸やフェノール化合物等の不純物を効率的に除去する。【解決手段】フェノール化合物により溶媒和されたリグニン含有材料に酸を添加し混合しリグニンのフェノール誘導体を生成させ、前記混合物を過剰の水に投入して水不溶区分を得、水不溶区分にアセトン及び/又はメチルエチルケトンを添加して、この溶媒中に前記リグニンのフェノール誘導体を抽出し、抽出液を、ジイソプロピルエーテル、n-ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン及び水からなる群から選択される1種あるいは2種以上の溶媒に添加し不溶区分を回収してリグニンのフェノール誘導体を精製するようにする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

リグニンのフェノール誘導体の製造方法であって、 フェノール化合物により溶媒和されたリグニン含有材料に酸を添加し混合しリグニンのフェノール誘導体を生成させる工程と、 前記リグニンのフェノール誘導体を不溶解物として含有する区分に当該リグニンのフェノール誘導体を抽出可能な抽出溶媒を添加して抽出する抽出工程と、 前記工程で得られる抽出液に対して、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、n-ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン及び水からなる群から選択される1種あるいは2種以上の溶媒を含む精製溶媒を用いることによりえられる不溶区分を回収してリグニンのフェノール誘導体を精製する精製工程、とを備える、方法。

IPC (1)：

C08B1/00

FI (1)：

C08B1/00

F-Term (8)：

4C090AA04 ,  4C090BA34 ,  4C090BB02 ,  4C090BB52 ,  4C090BB65 ,  4C090BB92 ,  4C090CA09 ,  4C090CA28