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J-GLOBAL ID：200903026789248685

表面実装光回路用の光導波路の製作方法

Inventor： 広瀬 純夫 ,  田中 淳介 ,  脇 浩
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995298599
Publication number (International publication number)：1997145945
Application date： Nov. 16, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】 光導波路をレジストを用いてリソグラフ法で製作する際に、光導波路の45度の全反射端面に部に相当する部分の活性エネルギー線の照射量を連続的に減少又は増加するように照射する。【効果】 表面実装光回路用の光導波路の45度の全反射端面を容易に作成できる。

Claim (excerpt)：

表面実装光回路用の45度の全反射端面を有する光導波路の製作方法に於いて、レジストに活性エネルギー線を照射し、現像することによって該光導波路を形成する際に、該光導波路の45度の全反射端面に相当する部分に於ける活性エネルギー線の照射量を連続的に減少又は増加するように照射することを特徴とする表面実装光回路用の45度の全反射端面を有する光導波路の製作方法。