Pat
J-GLOBAL ID：200903026792203129

表面凹凸形成方法、それにより得られる光学フィルム及び拡散反射板

Inventor：
木沢 桂子

About 木沢 桂子

, 
野尻 剛

About 野尻 剛

, 
岩室 光則

About 岩室 光則


Applicant, Patent owner：
日立化成工業株式会社

About 日立化成工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002370618
Publication number (International publication number)：2004198987
Application date： Dec. 20, 2002
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：
【課題】簡便にかつ安価に基板露出面の形成と同時に樹脂表面凹凸形状を形成できる方法および、それにより得られる光学フィルム、拡散反射板及び表面凹凸フィルムを提供する。【解決手段】少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、前記感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所以外に活性エネルギー線を照射する工程、前記活性エネルギー線を照射しなかった前記感エネルギー性樹脂組成物層をエッチング(現像)し、前加熱する工程を含む表面凹凸形成工程群(A)、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程、後加熱する工程を含む工程群(B)からなり、工程群(A)、(B)を順次行うマスクパターンに従った表面凹凸形成方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、前記感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を除去する箇所以外に活性エネルギー線を照射する工程、前記活性エネルギー線を照射しなかった前記感エネルギー性樹脂組成物層をエッチングし、前加熱する工程を含む表面凹凸形成工程群(A)、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程、後加熱する工程を含む工程群(B)からなり、工程群(A)、(B)を順次行うことを特徴とするマスクパターンに従った表面凹凸形成方法。
IPC (5)：
G02B5/02 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G09F9/30
FI (6)：
G02B5/02 C ,  G02B5/08 B ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/40 511 ,  G03F7/40 521 ,  G09F9/30 349D
F-Term (42)：
2H042BA03 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA04 ,  2H042DA05 ,  2H042DA08 ,  2H042DA22 ,  2H042DB08 ,  2H042DC02 ,  2H042DD01 ,  2H042DE00 ,  2H091FA16Z ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H091LA18 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096DA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  2H096HA05 ,  2H097CA12 ,  2H097FA02 ,  2H097GA45 ,  2H097HB03 ,  2H097LA17 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094ED11 ,  5C094FB01 ,  5C094GB01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM