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J-GLOBAL ID：200903026795127520

偏光源

Inventor： ウォートマン, デビッド エル. ,  ガーディナー, マーク イー. ,  オーダーキルク, アンドリュー ジェイ. ,  ジョンザ, ジェームス エム. ,  ウェバー, マイケル エフ.
Applicant, Patent owner： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995526445
Publication number (International publication number)：1997511844
Application date： Apr. 06, 1995
Publication date： Nov. 25, 1997
Summary：

【要約】偏光源は、拡散光源、および、この拡散光源に近接して配置された反射型偏光エレメントを有する。反射型偏光エレメントは、所望の偏光を通し、他の偏光は拡散光源の中に反射して戻す。戻された偏光は拡散光源にてランダム化される。初めに拒絶された光の幾らかは、所望の偏光に変換されて、反射型偏光エレメントを通して送出される。このプロセスは継続し、所望でない偏光が反射され、続いてランダム化されることをくり返すことにより、偏光源によって発生される所望の偏光の量を増加させる。

Claim (excerpt)：

光源と、 光ランダム化エレメントと、 第1の偏光を透過させ、第2の偏光を反射する多層反射性偏光フィルムとを有する偏光源において、 前記光ランダム化エレメントは、前記偏光源から放出される光の量が、最初に前記偏光源から放出される光の量より多くなるように前記反射された光の一部分を前記第1の偏光に変換するように前記反射された光の偏光をランダム化するべく適合されることを特徴とする偏光源。

IPC (4)：

G02B 27/28 ,  F21V 9/14 ,  G02F 1/1335 530 ,  G09F 9/00 322

FI (4)：

G02B 27/28 Z ,  F21V 9/14 ,  G02F 1/1335 530 ,  G09F 9/00 322 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-168626
  
• 特開平4-268505
  
• 特開平1-189627