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J-GLOBAL ID：200903026895877950

ガス分離装置

Inventor： 染谷 喜幸 ,  小出 秀人 ,  吉田 利彦
Applicant, Patent owner： 東燃株式会社
Agent (1)： 河備 健二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996261458
Publication number (International publication number)：1998085568
Application date： Sep. 10, 1996
Publication date： Apr. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高温で使用可能で、且つ高いガス(特に水素)透過速度と高いガス(特に水素)分離性能を有する、分離膜を利用するガス分離装置を提供する。【解決手段】 多孔質支持体上に分離膜を設けたガス分離装置において、上記多孔質支持体が径10Å以上400Å未満の細孔を有する層と径400Å以上100000Å未満の細孔を有する層との少なくとも2層からなり、かつ該多孔質支持体の小さい孔径側に上記分離膜として細孔径2〜10Åの多孔質シリカ膜を形成させる。

Claim (excerpt)：

多孔質支持体上に設けた分離膜を利用するガス分離装置において、上記多孔質支持体が径10Å以上400Å未満の細孔を有する層と径400Å以上100000Å未満の細孔を有する層との少なくとも2層からなり、かつ該多孔質支持体の小さい孔径側に上記分離膜として細孔径2〜10Åの多孔質シリカ膜を形成させてなることを特徴とするガス分離装置。

IPC (4)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/70 ,  C01B 33/12

FI (4)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/70 ,  C01B 33/12 C