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J-GLOBAL ID:200903026909361871
有機物を含む廃水の浄化処理方法及びその装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (1):
石井 暁夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000281137
Publication number (International publication number):2002086167
Application date: Sep. 18, 2000
Publication date: Mar. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 ダイオキシン等及び環境ホルモン等の有機物を含む被処理廃水に、オゾンの混合・溶解するとともに、紫外線を照射することによって、前記有機物を分解するという浄化処理方法において、その浄化率の向上を図る。【解決手段】 前記オゾンの混合・溶解プロセスと、前記紫外線の照射プロセスとを分離し、その間に、オゾンの混合・溶解プロセスからの被処理廃水を滞留させるプロセスを設ける。
Claim (excerpt):
被処理廃水に、オゾンを混合・溶解するプロセスと、次いで、紫外線を照射するプロセスとから成る浄化処理方法において、前記オゾンの混合・溶解プロセスと、前記紫外線の照射プロセスとを分離し、その間に、オゾンの混合・溶解プロセスからの被処理廃水を滞留させるプロセスを備えていることを特徴とする有機物を含む廃水の浄化処理方法。
IPC (8):
C02F 1/78
, B01F 1/00
, C02F 1/32
, C02F 1/58
, C02F 1/72 101
, C07C 35/06
, C07C 37/06
, C07D319/24
FI (8):
C02F 1/78
, B01F 1/00 A
, C02F 1/32
, C02F 1/58 A
, C02F 1/72 101
, C07C 35/06
, C07C 37/06
, C07D319/24
F-Term (33):
4D037AA11
, 4D037AB02
, 4D037AB14
, 4D037BA18
, 4D037BB01
, 4D037BB02
, 4D037CA12
, 4D038AA08
, 4D038AB07
, 4D038AB14
, 4D038BA02
, 4D038BA04
, 4D038BA06
, 4D038BB07
, 4D038BB16
, 4D050AA12
, 4D050AB11
, 4D050AB19
, 4D050BB02
, 4D050BC09
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4D050CA07
, 4G035AA01
, 4H006AA05
, 4H006AC13
, 4H006AC26
, 4H006BA95
, 4H006BB31
, 4H006BE31
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