Pat
J-GLOBAL ID:200903026946882539
座標測定機
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992073967
Publication number (International publication number):1993272957
Application date: Mar. 30, 1992
Publication date: Oct. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】 回転成分を含むドリフトの補正を可能とし、かつ測定試料上の位置によって異なるドリフトを補正可能なドリフト補正機構を有する座標測定機を提供する。【構成】 試料4表面に形成された複数のパターンの位置を測定する座標測定機であって、前記試料表面の所定位置に補正用基準パターンを設け、所定の測定周期毎に該補正用基準パターンの位置を測定して、前記所定位置に対する前記補正用基準パターンの二次元方向のドリフト量を求め、該二次元方向のドリフト量に応じて前記各パターンの測定位置を補正するドリフト補正手段7を備えた座標測定機において、前記補正用基準パターンA1〜A4は複数箇所に設けられており、これら複数の補正用基準パターンは前記測定周期毎に順次その位置が測定され、前記ドリフト補正手段はこの測定結果に基づいて前記補正用基準パターンの回転方向のドリフト量を更に求め、該回転方向のドリフト量に応じて前記各パターンの測定位置を補正する。
Claim (excerpt):
試料表面に形成された複数のパターンの位置を測定する座標測定機であって、前記試料表面の所定位置に補正用基準パターンを設け、所定の測定周期毎に該補正用基準パターンの位置を測定して、前記所定位置に対する前記補正用基準パターンの二次元方向のドリフト量を求め、該二次元方向のドリフト量に応じて前記各パターンの測定位置を補正するドリフト補正手段を備えた座標測定機において、前記補正用基準パターンは複数箇所に設けられており、これら複数の補正用基準パターンは前記測定周期毎に順次その位置が測定され、前記ドリフト補正手段はこの測定結果に基づいて前記補正用基準パターンの回転方向のドリフト量を更に求め、該回転方向のドリフト量に応じて前記各パターンの測定位置を補正することを特徴とする座標測定機。
Return to Previous Page