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J-GLOBAL ID：200903026964143433

シリカ系コーティング剤、シリカ薄膜の製造方法およびシリカ薄膜

Inventor： 小池 匡 ,  小林 章洋 ,  仲山 典宏
Applicant, Patent owner： 宇部日東化成株式会社
Agent (1)： 中村 静男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000278519
Publication number (International publication number)：2002088304
Application date： Sep. 13, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 ゾル-ゲル法により調製され、200°C以下での乾燥・熱処理で、クラックの発生が少ない強固なシリカ薄膜を与えるシリカ系コーティング剤、シリカ薄膜および該シリカ薄膜を有する構造体を提供する。【解決手段】 アルキル基の炭素数が1〜3のテトラアルコキシシラン、この部分加水分解物およびそのオリゴマーの中から選ばれる少なくとも1種を加水分解、縮合させてなる重量平均分子量85,000〜500,000のシリカゾルを含むシリカ系コーティング剤、ゾル-ゲル法により得られたシリカ薄膜であって、膜表面の水接触角が35°以下であるシリカ薄膜、および上記シリカ薄膜を有する構造体である。

Claim (excerpt)：

一般式(I)Si(OR)4 ...(I)(式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基を示し、4つのORはたがいに同一でも異なっていてもよい。)で表されるテトラアルコキシシラン、この部分加水分解物およびその縮合物であるオリゴマーの中から選ばれる少なくとも1種を加水分解、縮合させてなる、重量平均分子量85,000〜500,000のシリカゾルを含むことを特徴とするシリカ系コーティング剤。

IPC (6)：

C09D183/02 ,  B05D 3/02 ,  B05D 7/24 302 ,  C01B 33/12 ,  C09D 1/00 ,  H01L 21/768

FI (6)：

C09D183/02 ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 7/24 302 Y ,  C01B 33/12 C ,  C09D 1/00 ,  H01L 21/90 K

F-Term (65)：

4D075BB24Y ,  4D075BB24Z ,  4D075BB28Z ,  4D075BB93Y ,  4D075BB93Z ,  4D075BB95Y ,  4D075BB95Z ,  4D075CA02 ,  4D075CA03 ,  4D075CA18 ,  4D075CA23 ,  4D075CA33 ,  4D075CA37 ,  4D075CA50 ,  4D075DA06 ,  4D075DA23 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB43 ,  4D075DC01 ,  4D075DC11 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EB52 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF09 ,  4G072GG02 ,  4G072HH18 ,  4G072HH30 ,  4G072KK01 ,  4G072KK03 ,  4G072LL11 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072UU01 ,  4J038AA011 ,  4J038DL021 ,  4J038HA441 ,  4J038LA02 ,  4J038MA14 ,  4J038NA11 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F033GG03 ,  5F033GG04 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR09 ,  5F033RR25 ,  5F033SS00 ,  5F033SS03 ,  5F033SS22 ,  5F033WW00 ,  5F033WW03 ,  5F033XX01 ,  5F033XX12 ,  5F033XX17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭63-278977