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J-GLOBAL ID：200903026970019140

アクリル酸エステル誘導体の製造方法

Inventor： 林 隆哉 ,  阪野 公一 ,  万木 啓嗣
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996123649
Publication number (International publication number)：1997299096
Application date： May. 17, 1996
Publication date： Nov. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 アクリル酸エステル糖誘導体の新規な製造方法の提供。【解決手段】 一般式(1)(式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R2 は水素原子、対イオン、または有機残基を表す)で表される化合物と、一般式(2)G-H(式中、Gは糖残基を表す)で表されるヘミアセタール水酸基を含有する糖類、及び/または一般式(3) G-R3(式中、Gは糖残基、R3 は有機残基を表す)で表されるグリコシド類とを酵素を用いて反応させることを特徴とする一般式(4)(式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R2は水素原子、対イオン、または有機残基を表し、Gは糖残基を表す)で表されるアクリル酸エステル誘導体の製造方法。上記の方法により製造されたアクリル酸エステル誘導体モノマーから、親水性、生分解性又は生体適合性に優れたアクリル酸エステル系重合体が得られる。【化1】

Claim (excerpt)：

一般式(1):【化1】(式中、R1 は水素原子または有機残基を表し、そしてR2 は水素原子、対イオン、または有機残基を表す)で表される化合物と、一般式(2):G-H(式中、Gは糖残基を表わし、そしてHはヘミアセタール水酸基の水素原子を表わす)で表されるヘミアセタール水酸基を含有する糖類、及び/または一般式(3):G-R3(式中、Gは糖残基を表わし、そしてR3 はヘミアセタール水酸基に結合した有機残基を表す)で表されるグリコシド類とを酵素を用いて反応させることを特徴とする一般式(4):【化2】(式中、R1 は水素原子または有機残基を表し、R2 は水素原子、対イオン、または有機残基を表し、そしてGは糖残基を表す)で表されるアクリル酸エステル誘導体の製造方法。

IPC (6)：

C12P 19/44 ,  C07H 15/04 ,  C08B 11/12 ,  C08B 33/04 ,  C08B 37/08 ,  C08F 20/26 MML

FI (6)：

C12P 19/44 ,  C07H 15/04 D ,  C08B 11/12 ,  C08B 33/04 ,  C08B 37/08 A ,  C08F 20/26 MML