Pat

J-GLOBAL ID：200903026978609893

排ガスを処理するための触媒及び方法

Inventor： 馬場 敏勝 ,  吉川 嘉之 ,  政次 満 ,  野島 良一
Applicant, Patent owner： 堺化学工業株式会社
Agent (1)： 牧野 逸郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995333676
Publication number (International publication number)：1996229402
Application date： Dec. 21, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】低温域から高温域、特に、150°C程度の低温域から500°Cを超える高温域の広い温度域にわたって、アンモニアに代表される還元剤の存在下に、毒性のある有機塩素化合物と窒素酸化物とを同時に除去することができる触媒と、更に、そのような触媒を用いて、長期間にわたって安定して上記有機塩素化合物と共に窒素酸化物を接触除去できる排ガスの処理方法を提供する。【解決手段】(a) チタン、(b) タングステン及びモリブデンから選ばれる少なくとも1種を酸化物換算に て8〜25重量%、(c) ニオブを酸化物換算にて0.1〜5重量%、及び(d) バナジウムを酸化物換算にて0.1〜10重量%を含み、(e) 硫酸を三酸化硫黄換算にて3.5重量%以下に規制してなる触媒。

Claim (excerpt)：

(a) チタン、(b) タングステン及びモリブデンから選ばれる少なくとも1種を酸化物換算にて8〜25重量%、(c) ニオブを酸化物換算にて0.1〜5重量%、及び(d) バナジウムを酸化物換算にて0.1〜10重量%を含み、(e) 硫酸を三酸化硫黄換算にて3.5重量%以下に規制してなることを特徴とする排ガス中の有機塩素化合物を接触除去すると共に、還元剤の存在下に窒素酸化物を接触還元除去するための触媒。

IPC (4)：

B01J 27/053 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/96

FI (4)：

B01J 27/053 ZAB A ,  B01D 53/36 ZAB G ,  B01D 53/36 102 C ,  B01D 53/36 102 E