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J-GLOBAL ID：200903026987469050

液晶表示装置の製造方法

Inventor： 菅原 貴子 ,  中園 卓志
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993036283
Publication number (International publication number)：1994250218
Application date： Feb. 25, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ドレインリーク電流を低減し得るばかりでなく、リーク電流を低減させた LDD構造型 TFTを具備し、常時良好な画質の表示が可能な液晶表示装置の製造方法の提供を目的とする。【構成】 LDD構造の薄膜トランジスタ素子,薄膜トランジスタ素子に接続された画素電極を備えた薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の画素電極に対向する対向電極を備えた対向基板とを、前記画素電極および対向電極を対向させ、かつ液晶材料を充填・挟持する液密な空間領域を形成させて封止・一体化する工程、および前記薄膜トランジスタアレイ基板および対向基板で形成する液密な空間領域に液晶材料を充填・挟持させる工程を具備して成る液晶表示装置の製造方法で、前記薄膜トランジスタアレイ基板面に、予め感光性樹脂の塗布処理および有機溶剤による洗浄処理を施しておくことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

LDD構造の薄膜トランジスタ素子、および前記薄膜トランジスタ素子に接続された画素電極を備えた薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の画素電極に対向する対向電極を備えた対向基板とを、前記画素電極および対向電極を対向させ、かつ液晶材料を充填・挟持する液密な空間領域を形成させて封止・一体化する工程、および前記薄膜トランジスタアレイ基板および対向基板で形成する液密な空間領域に液晶材料を充填・挟持させる工程を具備して成る液晶表示装置の製造方法において、前記薄膜トランジスタアレイ基板面に、予め感光性樹脂の塗布処理および有機溶剤による洗浄処理を施しておくことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (3)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 29/784

FI (2)：

H01L 29/78 311 A ,  H01L 29/78 311 S