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J-GLOBAL ID：200903026999756977

磁気抵抗効果膜、およびこれを用いた磁気記録再生装置

Inventor： 中谷 亮一 ,  杉田 愃 ,  椎木 一夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992022342
Publication number (International publication number)：1993225529
Application date： Feb. 07, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】多層磁気抵抗効果膜の磁気ヘッド適用に関する種々の問題の解決方法を提供することにある。【構成】高感度の磁気抵抗効果素子を得るために、高い磁気抵抗効果を示す多層膜を用い、磁性金属層の少なくとも1層に、他の磁性金属層と異なる磁化容易方向を持たせた。磁化容易方向と磁界の向きの制御を容易にするために、磁性層間の交換相互作用の大きさを、0.01erg/cm2 以下とした。【効果】高感度の磁気抵抗効果素子を得た。

Claim (excerpt)：

磁性金属層と非磁性層を積層した多層構造を有する磁気抵抗効果膜において、上記磁気抵抗効果膜が上記非磁性層を挾む上記磁性金属層の磁化の向きのなす角度による磁気抵抗効果を有し、上記磁性金属層の少なくとも1層が、他の磁性金属層と異なる磁化容易方向を持ち、また、少なくとも一部の非磁性層を挾む磁性金属層の間の間接的あるいは直接的な交換相互作用の大きさが、0.01erg/cm2以下であることを特徴とする磁気抵抗効果膜。