Pat
J-GLOBAL ID:200903027035563068
ポジ型感放射線性組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000221889
Publication number (International publication number):2002040661
Application date: Jul. 24, 2000
Publication date: Feb. 06, 2002
Summary:
【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】下記一般式(1)および一般式(2)で示される構造単位を含み、かつガラス転移点Tgが80°C以上150°C以下である重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXは炭素数1から6のアルキル基、ハロゲン元素またはシアノ基、Aは酸素と結合している炭素が3級であり、芳香環を含有している1価の有機基を表す。)【化2】(ここでYは炭素数1から6のアルキル基、ハロゲン元素またはシアノ基、Bは脂環式アルキル基を表す。)
Claim (excerpt):
下記一般式(1)および一般式(2)で示される構造単位を含み、かつガラス転移点Tgが80°C以上150°C以下である重合体(a)、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤(b)を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXは炭素数1から6のアルキル基、ハロゲン元素またはシアノ基、Aは酸素と結合している炭素が3級であり、芳香環を含有している1価の有機基を表す。)【化2】(ここでYは炭素数1から6のアルキル基、ハロゲン元素またはシアノ基、Bは脂環式アルキル基を表す。)
IPC (8):
G03F 7/039 601
, C08F 2/50
, C08F220/12
, C08F220/42
, C08L 5/00
, C08L 33/04
, C08L 33/18
, H01L 21/027
FI (8):
G03F 7/039 601
, C08F 2/50
, C08F220/12
, C08F220/42
, C08L 5/00
, C08L 33/04
, C08L 33/18
, H01L 21/30 502 R
F-Term (51):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BF07
, 2H025BF08
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB60
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG081
, 4J002BG091
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J011QA03
, 4J011QA48
, 4J011SA61
, 4J011SA63
, 4J011SA78
, 4J011SA83
, 4J011SA87
, 4J011UA01
, 4J011UA03
, 4J011UA04
, 4J011VA01
, 4J011WA01
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AM05P
, 4J100AM05Q
, 4J100BA03Q
, 4J100BA15Q
, 4J100BB01P
, 4J100BB01Q
, 4J100BB03P
, 4J100BB03Q
, 4J100BB07P
, 4J100BB07Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC12Q
, 4J100BC43P
, 4J100CA04
, 4J100DA25
, 4J100JA37
, 4J100JA38
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