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J-GLOBAL ID：200903027056048813

排気ガス浄化装置、そこに用いられるフィルタ及び排気ガス浄化方法

Inventor：
大野 一茂

About 大野 一茂


Applicant, Patent owner：
イビデン株式会社

About イビデン株式会社


Agent (1)： 恩田 博宣 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000053512
Publication number (International publication number)：2001241316
Application date： Feb. 29, 2000
Publication date： Sep. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】パティキュレートの捕集効率を低下させることなく、パティキュレートの燃焼効率の向上を図ること。【解決手段】本実施形態の排気ガス浄化装置11によれば、2つのフィルタ22,23が排気ガス流路に沿って直列に配置されている。両フィルタ22,23のうち下流側フィルタ23の両端面全体は、封止材31によって交互封止領域に設定されている。一方、上流側フィルタ22の両端面は、一部のみが交互封止領域に設定されている。
Claim (excerpt)：
内燃機関から延びる排気管上に設けられたケーシングと、前記ケーシング内に収容され、排気ガス中に含まれるパティキュレートを除去するフィルタとを備え、そのフィルタはセル壁により区画されている複数の貫通孔を有し、各貫通孔の両端部に形成された2つの開口部のうち1つが封止材により交互に封止されている排気ガス浄化装置において、前記フィルタを前記排気管に沿って一直線上に複数個配置し、各フィルタのうち最下流側に配置されたフィルタの両端面全体を前記封止材によって交互に封止し、他のフィルタの両端面の一部を前記封止材によって交互に封止し、排気ガスの一部を浄化をしないまま下流側に配置されたフィルタに直接流通させる排気ガス流通路を設けたことを特徴とする排気ガス浄化装置。
IPC (2)：
F01N 3/02 301 ,  B01D 46/00 302
FI (2)：
F01N 3/02 301 C ,  B01D 46/00 302
F-Term (9)：
3G090AA02 ,  3G090BA01 ,  3G090CB21 ,  4D058JA38 ,  4D058JA39 ,  4D058JB06 ,  4D058KB11 ,  4D058MA41 ,  4D058SA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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