Pat

J-GLOBAL ID：200903027061375091

真空処理装置

Inventor： 鈴木 雅史
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991174867
Publication number (International publication number)：1993021579
Application date： Jul. 16, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、真空処理装置に関し、搬送室と処理室間でウェーハを搬送装置で入れ換え搬送する際、搬送装置の動作を少なくしてウェーハの入れ換え時間を短縮することができ、装置の処理能力を向上させることができ、しかも1個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ換え搬送することができ、各処理室間でクロスコンタミネーションを生じないようにすることができ、更には、上下動させないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ替え搬送することができる真空処理装置を提供することを目的とする。【構成】 ゲート弁4を介して処理室3b、3cと隣接して設けられた搬送室1と、該処理室3b、3cと該搬送室1間でウェーハを搬送するフィンガーを有する搬送装置2とを有する枚葉式の真空処理装置において、該搬送室1のフィンガー2aを少なくも2個以上にし、かつ該フィンガー2a同志を水平に設けるように構成する。

Claim (excerpt)：

ゲート弁(4)を介して処理室(3b、3c)と隣接して設けられた搬送室(1)と、該処理室(3b、3c)と該搬送室(1)間でウェーハを搬送するフィンガーを有する搬送装置(2)とを有する枚葉式の真空処理装置において、該搬送室(1)のフィンガー(2a)を少なくも2個上にし、かつ該フィンガー(2a)同志を水平方向に設けて構成することを特徴とする真空処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/203