Pat

J-GLOBAL ID：200903027075456361

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 越川 誉生 ,  戸田 順三
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992206399
Publication number (International publication number)：1994131630
Application date： Aug. 03, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、磁気記録再生装置に用いる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関し、上部磁極形成過程におけるリード線間ショート発生やオーバーエッチングによる導体コイル露出を防止することのできる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的としている。【構成】 本発明の薄膜磁気ヘッド21は、層間絶縁層24,ギャップ層26,記録再生用導体コイル23を挟んで磁気回路を形成する2つの磁極22,25を有し、浮上ヘッド等の基板の流出端側に設けられている。基板側の一方の磁極22の飽和磁束密度と、他方の磁極25のギャップ層26側の一部分25aの飽和磁束密度は、磁極25の残りの部分25bより大きくなっている。

Claim (excerpt)：

層間絶縁層,ギャップ層,記録再生用導体コイルを挟んで磁気回路を形成する少なくとも2つの磁極を有し、基板上に形成された薄膜磁気ヘッドにおいて、前記基板側の一方の磁極の飽和磁束密度と、他方の磁極の前記ギャップ層側の一部分の飽和磁束密度が、該他方の磁極の残りの部分の飽和磁束密度より大きいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-023214
  
• 特開平4-157607
  
• 特開平4-163707