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J-GLOBAL ID：200903027085944216
半導体ウエハの移送機構
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991282014
Publication number (International publication number)：1994080212
Application date： Oct. 03, 1991
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】研削加工前の半導体ウエハが収納されているカセットから単品毎に送出する、又は、研削加工後の半導体ウエハを収納するカセットへの半導体ウエハの移送機構。【構成】エレベーター台の基台2へ螺条孔3を貫設し、螺条孔3へ回転停止自在なポール螺子5を貫通螺合させ、基台2の上方へ平行する載置台6を設け、基台2と載置台6とにカセットCを載置させると共に、夫々のエレベーター台1とプリポジション装置又は洗浄及び乾燥装置との間へ枢動可能な反転機構を備えた反転アーム9を配設し、反転アーム9の先端辺へカセットCの開口Kへ挿脱自在に進退する伸縮機構11を備え、伸縮機構11の先端へ吸着パット12を付設させた。
Claim (excerpt)：
一側面へ開口を備え且つ内部を桟体で仕切って多数枚の半導体ウエハを単品毎に収納したカセットを載置するエレベーター台と、前記カセットから半導体ウエハを送出又はカセットへ半導体ウエハを格納する反転アームとを備えた送出側及び格納側の夫々の移送機構において、前記エレベーター台の平板状の基台へ螺条孔を貫設し、該螺条孔へ駆動源と接続され回転停止自在なポール螺子を貫通螺合させ、前記基台の上方へ間隔を有して平行する載置台を設け、前記基台の上面と載置台の上面とにはカセットの開口を同一方向に向けて載置させると共に、前記夫々のエレベーター台とプリポジション装置又は洗浄及び乾燥装置との間へ垂直方向に枢動可能な反転機構を備えた反転アームを配設し、該反転アームの先端辺へ前記カセットの開口へ挿脱自在に進退する伸縮機構を備え、該伸縮機構の先端へは半導体ウエハをバキューム吸着する吸着パットを付設させたことを特徴とする半導体ウエハの移送機構。
IPC (6)：
B65G 1/07
, B24B 37/04
, B65G 1/04
, B65G 47/91
, B65G 49/07
, H01L 21/68
