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J-GLOBAL ID：200903027087521452

レジストパターンの製造法

Inventor： 丹野 清吉 ,  藤田 瑛二 ,  須藤 鉄也 ,  向 郁夫 ,  小林 和夫
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998172319
Publication number (International publication number)：2000010297
Application date： Jun. 19, 1998
Publication date： Jan. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 短時間の現像で高精細なレジストパターンを歩留りよく製造できるレジストパターンの製造法を提供する。【解決手段】 基板上に形成された感光性樹脂層をパターン状に露光し、高周波を与えた現像液を用いて現像することにより、パターン状に露光された感光性樹脂層を選択的に除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された感光性樹脂層をパターン状に露光し、高周波を与えた現像液を用いて現像することにより、パターン状に露光された感光性樹脂層を選択的に除去することを特徴とするレジストパターンの製造法。

IPC (2)：

G03F 7/32 ,  H01J 9/02

FI (2)：

G03F 7/32 ,  H01J 9/02 F

F-Term (9)：

2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA02 ,  2H096GA08 ,  2H096GA21 ,  2H096GA60 ,  5C027AA01 ,  5C027AA09