投影光学系及び投影露光装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡部正夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993336471
Publication number (International publication number)：1995140385
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】比較的広い露光領域を確保しながら、第1物体(レチクル)および第2物体(ウェハ)の平面度が極めて悪い場合でも、実質的に少ない像歪が得られ、コンパクトで高い開口数を持つ高解像力な投影光学系及びそれを備えた投影露光装置の提供にある。【構成】第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系において、前記投影光学系は、前記第1物体側より順に、正の屈折力を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル系で構成される第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3とを有し、さらに所定の条件を満足するように構成した。

Claim (excerpt)：

第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系において、前記投影光学系は、前記第1物体側より順に、正の屈折力を持つ第1レンズ群G1と、アフォーカル系で構成される第2レンズ群G2と、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3とを有し、全系の焦点距離をFとし、前記投影光学系の投影倍率をB、前記第1物体と前記第2物体との間の距離をL、前記第1物体から前記第1レンズ群G1の最も第1物体側のレンズ面までの距離をd0 、前記第1レンズ群G1の焦点距離をf1 、前記第3レンズ群G3の焦点距離をf3 とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影光学系。(I) 1.8≦|F/(B・L)|(II) d0 /L≦0.2(III) 0.80≦f3 /f1 ≦1.5

IPC (4)：

G02B 13/24 , G02B 13/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 527

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開昭60-184222
特開昭60-120312
特開昭58-150924

Cited by examiner (6)

特開昭60-184222
特開昭60-120312
特開昭58-150924

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