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J-GLOBAL ID：200903027111559687
プロピレン系低重合体の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡辺 喜平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991265191
Publication number (International publication number)：1993025215
Application date： Sep. 17, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 アルミノキサン等の助触媒を使用せず、少量の有機アルミニウム化合物を使用して、プロピレン系低重合体を製造し、従って脱灰工程を簡略化して製造プロセス全体を簡略化し、コスト低減を図る。【構成】 下記化合物(A)及び(B)又は下記化合物(A)、(B)及び(C)を触媒としてプロピレンの単独重合又はプロピレンとプロピレン以外のオレフィンとの共重合を行なう。(A)下記一般式(I)で表わされる遷移金属化合物(R5C5)mMX4-m ・・・(I)[式中R5C5は炭化水素基置換シクロペンタジエニル基、Mはジルコニウム原子又はハフニウム原子、Xは水素原子,ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。mは1〜4の整数を示す。5個のRは同一でも異なっていてもよい。m個のR5C5は同一でも異なっていてもよい。4-m個のXは同一でも異なっていてもよい。](B)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物(C)有機アルミニウム化合物
Claim (excerpt)：
下記化合物(A)及び(B)を触媒としてプロピレンの単独重合又はプロピレンとプロピレン以外のオレフィンとの共重合を行なうことを特徴とするプロピレン系低重合体の製造方法。(A)下記一般式(I)で表わされる遷移金属化合物(R5C5)mMX4-m ・・・(I)[式中R5C5は炭化水素基置換シクロペンタジエニル基、Mはジルコニウム原子又はハフニウム原子、Xは水素原子,ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。mは1〜4の整数を示す。5個のRは同一でも異なっていてもよい。m個のR5C5は同一でも異なっていてもよい。4-m個のXは同一でも異なっていてもよい。](B)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物
IPC (2)：
C08F 10/06
, C08F 4/642 MFG
