軸外し反射光学系

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999001412
Publication number (International publication number)：2000199852
Application date： Jan. 06, 1999
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】コンパクトでありながら、極めて良好な像を形成すること【解決手段】遠方物体の像を光軸外の位置に形成する軸外し反射光学系は、光の入射側から順に、正パワーの第1凹面鏡M1と、負パワーの凸面鏡M2と、正パワーの第2凹面鏡M3とを有する。そして第1凹面鏡M1と凸面鏡M2とは実質的にアフォーカル光学系を構成しており、凸面鏡M2と第2凹面鏡M3との間の光路中には絞りSが配置され、第1凹面鏡M1、凸面鏡M2及び第2凹面鏡M3の反射面形状を非球面とした。

Claim (excerpt)：

遠方物体の像を光軸外の位置に形成する軸外し反射光学系において、光の入射側から順に、正パワーの第1凹面鏡と、負パワーの凸面鏡と、正パワーの第2凹面鏡とを有し、前記第1凹面鏡と前記凸面鏡とは実質的にアフォーカル光学系を構成しており、前記凸面鏡と前記第2凹面鏡との間の光路中には絞りが配置され、前記第1凹面鏡、前記凸面鏡及び前記第2凹面鏡の反射面形状は非球面であることを特徴とする軸外し反射光学系。

F-Term (6)：

2H087KA01 , 2H087LA02 , 2H087RA32 , 2H087TA02 , 2H087TA05 , 2H087TA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開昭56-022407
非同軸共焦点ズーム反射光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-145020 Applicant：防衛庁技術研究本部長
X線リソグラフィー用反射縮小結像光学系
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-087635 Applicant：株式会社ニコン

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