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J-GLOBAL ID：200903027166336164
レジスト現像液及びパタン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991310896
Publication number (International publication number)：1993142787
Application date： Nov. 26, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：
【要約】【目的】 被加工体上にレジストパタンを形成する工程において、レジスト現像時間を短縮し量産性を向上させるとともに、現像液による基板の腐食を低減する。【構成】 TMAHアルカリ水溶液にCnH2n+1OH又はCn'H2n'+1COCn"H2n"+1(但し、n、n’及びn”は整数、1≦n≦7、1≦n’≦4、n’≦n”≦n’+3)で示されるアルコール又はケトンを少なくとも1含んでなるレジスト現像液及び該現像液を用いるパタン形成方法。
Claim (excerpt)：
アルカリ水溶液に一般式CnH2n+1OH又はCn'H2n'+1COCn"H2n"+1(但し、n、n’及びn”は整数であり、1≦n≦7、1≦n’≦4、n’≦n”≦n’+3である。)で示されるアルコール又はケトンを少なくとも1混合してなるレジスト現像液。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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