ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999343713
Publication number (International publication number)：2001159822
Application date： Dec. 02, 1999
Publication date： Jun. 12, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】半導体デバイスの製造において、露光マージンに対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】一般式(I′),(II′)などで表されるスルホン酸を発生する化合物、一般式(I)で表されるシリコン含有繰り返し単位と、(IIa)などの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、溶剤、有機塩基性化合物及び界面活性剤を含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する下記一般式(I')〜(III')で表される化合物のうち少なくとも1種(B)少なくとも一般式(I)で表される繰り返し単位と、一般式(IIa)又は(IIb)で表される繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂(C)上記(A)および(B)成分を溶解する少なくとも1種の溶剤(D)有機塩基性化合物(E)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記一般式(I')〜(III')中:R1〜R37は、同一又は異なって、水素原子、直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、直鎖状、分岐状あるいは環状アルコキシ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、又は-S-R38基を表す。R38は、直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基又はアリール基を表す。また、R1〜R15、R16〜R27、R28〜R37のうち、2つ以上が結合して、単結合、炭素、酸素、イオウ、及び窒素から選択される1種又は2種以上を含む環を形成していてもよい。X-は、RFSO3-を表す。ここでRFは、炭素数2以上のフッ素置換された直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基である。【化2】一般式(I)中、Yは水素原子、メチル基、シアノ基、塩素原子から選ばれる独立に直鎖または分岐を有するアルキル基、フェニル基、トリアルキルシリル基基を表す。Lは単結合または2価の連結基を表す。R'、R''、R'''はそれぞれ、トリアルキルシリルオキシ基を表す。【化3】一般式(IIa)中、Zは酸素原子、N-R3を表す。R3は水素原子、水酸基、直鎖または分岐を有するアルキル基、あるいは-O-SO2-R4を表す。R4はアルキル基、トリハロメチル基を表す。一般式(IIb)中、X1、X2は、それぞれ独立に酸素原子、イオウ原子、-NH-、-NHSO2-を表す。A1、A2はそれぞれ独立に単結合または2価の連結基を表す。R1、R2は、それぞれ独立に水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5、-CO-NH-R6、置換されていても良い、アルキル基、アルコキシ基あるいは環状炭化水素基(環を形成する結合中にエステル基またはカルボニル基を有していても良い)を表す。R5は置換基を有していても良いアルキル基または環状炭化水素基(環を形成する結合中にエステル基またはカルボニル基を有していても良い)を表す。R6は置換基を有していても良いアルキル基を表す。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , G03F 7/031 , G03F 7/075 501

FI (6)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 504 , G03F 7/031 , G03F 7/075 501

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