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J-GLOBAL ID：200903027234755316

紫外線照射装置および紫外線処理装置

Inventor： 宮川 和弘 ,  田中 悟
Applicant, Patent owner： 東芝ライテック株式会社
Agent (1)： 波多野 久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994026955
Publication number (International publication number)：1995232057
Application date： Feb. 24, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】紫外線照射効率と紫外線処理効率とを共に高めると共に、紫外線ランプの最冷部の温度制御を容易化する。【構成】ほぼ平行に並設されて、被処理物15をそれぞれ搬送する複数のベルトコンベア13,14と、これらのベルトコンベア13,14間に立設される直状の低圧水銀ランプ16と、この低圧水銀ランプ16の両側にそれぞれ配設されて、この低圧水銀ランプ16からの紫外線を各ベルトコンベア13,14の搬送路上へそれぞれ反射せしめるミラー17,18とを有する。

Claim (excerpt)：

ほぼ平行に並設されて、被処理物をそれぞれ搬送する複数の搬送路と、これらの搬送路間に立設される紫外線ランプと、この紫外線ランプの両側にそれぞれ配設されて、この紫外線ランプからの紫外線を前記各搬送路上へそれぞれ反射せしめる反射体と、を有することを特徴とする紫外線照射装置。

IPC (5)：

B01J 19/12 ,  C03C 23/00 ,  C08J 7/00 304 ,  B05C 9/12 ,  C01B 13/10