電子線露光用描画データの作成方法及び電子線描画方法並びにフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスクの製造方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001085161
Publication number (International publication number)：2002289496
Application date： Mar. 23, 2001
Publication date： Oct. 04, 2002
Summary：

【要約】【課題】既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。【解決手段】電子線描画用パターン全域を最小マスクパターン寸法より充分に小さなグリッドにて分割してアドレスを作成し、エネルギー蓄積分布関数f(r)とマスクパターンの位置座標データとの重畳からパターン全域での各アドレス毎のレジスト中のエネルギー蓄積分布データを求め、各メッシュ分割パターン間のエネルギー蓄積量の相対値に応じてランク付けを行い、各メッシュ分割パターン毎に付与されたランクに応じた電子線照射量の補正値を求め、電子線照射量を補正して、可変成形法の電子線描画を行う。

Claim (excerpt)：

電子線露光用描画データ及び電子線露光方法を用いて、フォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスクを作製する工程において、電子線を用いてマスクパターンを形成する際、電子線描画用パターン全域をグリッドにて分割してアドレスを作成し、前記各アドレスにおいてレジスト中のエネルギー蓄積分布関数とマスクパターンの位置座標データとの重畳計算を行い、前記各アドレス毎のレジスト中のエネルギー蓄積分布データを求める。次いで、全ての描画パターンをある最小サイズ以上の大きさをもつメッシュに分割してメッシュ分割パターンを作成し、前記各メッシュ分割パターン内にあるアドレスでのエネルギー蓄積分布データをもとに、最大蓄積エネルギーを持つメッシュ分割パターンを基準にしたとき、メッシュ分割パターン間のエネルギー蓄積量の相対値に応じてランク付けを行い電子線露光用描画データを作成することを特徴とする電子線露光用描画データの作成方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521

FI (6)：

G03F 1/08 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 541 M , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 531 M , H01L 21/30 541 S

F-Term (13)：

2H095BA07 , 2H095BA08 , 2H095BA10 , 2H095BB01 , 2H095BB10 , 2H095BB32 , 5F046GD17 , 5F056AA01 , 5F056CA02 , 5F056CC12 , 5F056CC13 , 5F056CD02 , 5F056CD03

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