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J-GLOBAL ID：200903027293153150

X線発生装置

Inventor： 前田 裕樹
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 喜多 俊文 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001190542
Publication number (International publication number)：2003007237
Application date： Jun. 25, 2001
Publication date： Jan. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】 厚さの薄い試料やX線吸収が少ない試料について、コントラストのある鮮明なX線画像を得ることができるX線発生装置を提供する。【解決手段】 透過型X線管のX線透過窓基材5の電子ビームが当たる局所部分を、凹部形状の薄部6bにして、その上部からターゲット金属6aを熱CVD法等によって形成する。その凹部からなるターゲット6を、円周上に複数個形成して、X線透過窓基材5を固定するホルダを、電子ビームの中心から偏心した状態にし、ターゲット6を回転して新しいターゲット6を使用する。電子ビームがターゲット6に当たるとX線を発生し、凹部形状の薄部6bは厚さが薄いので透過X線は軟X線成分の多いX線となり、厚さの薄い試料やX線吸収が少ない試料に照射して、コントラストのある鮮明なX線画像を得ることができる。

Claim (excerpt)：

陰極のフィラメントから放出された電子を加速収束させて陽極側のX線透過窓基材上に設けられたターゲット金属に衝突させ、透過方向にX線を発生させるX線発生装置において、電子が前記ターゲット金属に衝突し発生したX線が透過方向に通過する前記X線透過窓基材の部分のみを局部的に凹部にして薄くし、そのX線透過窓基材の凹部に前記ターゲット金属を蒸着したことを特徴とするX線発生装置。

IPC (5)：

H01J 35/08 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01J 35/18

FI (5)：

H01J 35/08 F ,  G21K 5/00 W ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H01J 35/18